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地讲解光刻机各个硬件部件的工作原理。
姜老指着光刻机的光源部分说：“这个EUV光源的功率输出是非常关键的参数，控制系统需要精确地对其进行监测和调整。在光刻过程中，光源功率的微小波动都会影响到光刻的精度。”
专家教授团队的成员们认真地记录着姜老的讲解，不时提出一些问题。
“姜老，那这个光源功率波动的正常范围是多少呢？我们在设计控制系统的监测算法时需要这个数据。”一位成员问道。
姜老耐心地回答：“正常情况下，我们希望这个波动范围控制在±0.1%以内，这是目前我们在硬件上能达到的最佳水平。所以你们的控制系统要尽可能精确地将其稳定在这个范围内。”
在另一边，技术部的工程师们正在忙碌地搭建控制系统的开发环境。他们从公司的服务器中调配计算资源，安装各种开发工具和模拟软件。
工程师小李一边安装软件一边对同事说：“这个控制系统的开发对计算资源的要求很高，我们要确保开发环境的稳定性，不能因为计算资源不足而影响开发进度。”
同事小刘回应道：“是啊，而且我们还要考虑到后期测试阶段，可能需要更多的资源来进行大规模的模拟测试。”
随着时间的推移，各个团队之间的协作越来越紧密。专家教授团队在开发过程中遇到了一些关于硬件底层驱动的问题，他们及时向姜老的团队请教，姜老的团队总是能迅速给出解决方案。
而姜老的团队在对光刻机进行进一步调试时，也会参考专家教授团队对控制系统的设计思路，对硬件进行一些优化调整。
技术部则在中间起到了桥梁的作用，他们不仅负责协调两个团队之间的沟通，还对控制系统的开发过程进行质量监控。
当一天的工作接近尾声时，林宇再次来到各个团队的工作区域视察。
他先来到专家教授团队的办公室，看到大家都在紧张地忙碌着，有的在讨论算法优化，有的在绘制新的系统模块图。
林宇鼓励大家说：“各位同事，今天大家的工作非常辛苦，但我看到了大家的努力和进步。这个项目虽然困难重重，但只要我们保持这种积极的态度，就一定能够取得成功。”
接着，他又来到姜老的实验室，看到姜老和他的团队成员正在对光刻机的一个关键部件进行调整。
姜老看到林宇，笑着说：“林总，今天和专家教授团队的交流让我们收获很大。我们发现通过
