第141章 光刻机难么？一点都不难！ (第2/3页)
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，对叶云明这个年轻人，还是非常不满与不服。
包括东海微电子公司的老板贺光，内心也不是特别欢迎叶云明的到来，有着几分的抗拒与不情愿，但又不得不拿出欢迎配合的态度。
另外，他们也有那么点‘看好戏’的心态，想看看这个叶云明，了解完光刻机极其复杂的内部结构后，对于如何提高工作稳定性，他能拿出什么样的妙招和办法？还是大概率跟他们一样，对许多问题抓耳挠腮、一筹莫展，只能通过实际的芯片生产，去发现具体的问题。
自然而然。
这些人的复杂心态，叶云明压根没时间去理会，他全身心的投入到了对光刻机的研究中。
刚开始三天，他了解清楚了光刻机的内部详细构造，在脑中的思维殿堂里，也构造出了一台光刻机的数学模型。
然后不断的进行推演，暴露问题，再进行优化和改进。
这过程一共持续了七天。
在第十一天，叶云明拿出了他的光刻机改进方案，没有增加多少新的零件，反而减少了1.1万个零件，写了套自己编写的光刻机控制程序，再调整了一些模块的分布位置，增加了不少巧妙设计，使得新款的dUV光刻机，看起来简洁明了，没有丝毫的杂乱无章，反而有种工业美感，看着就觉得很靠谱。
连那些想提出质疑的人，看完设计图后，都不由冒出了‘就该这么设计’的想法，实在挑不出什么毛病。
“就按叶总的设计方案，把新的光刻机组装出来！”
贺光拍板道。
很快。
上千人连续加班加点了五天。
新款的改进型dUV光刻机，成功组装了出来。
在实验室内试用了一番。
光刻清晰度有了极大提高。
稳定性至少提高了十倍。
连光刻功率、速度和效率，都有了五成以上的提高。
较之前的那款dUV光刻机，简直有了脱胎换骨的进化。
甚至连制造成本，都降低了大约15%，且更容易批量化生产。
再然后，这台改进版的光刻原型机，被送到了龙兴芯片公司的工厂，用于小芯粒的套刻生产，并很快传来了振奋人心的消息！
新款的dUV光刻机特别好用，小芯粒的良率，提高到了98.5%，完全达标！
连续工作24小时后，没有出现任何故障。
且光刻精度高、速度快，能满足小芯粒
