第166章 万能芯片 (第3/10页)
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“啊，你们不声不响地搞出了不得了的技术成果来了！”</p>
大首长此时欣喜地看着周晓东说道：“你们这种开发板能够提供给国内的高校和科研院所使用吗？”</p>
“当然是可以的。”</p>
周晓东笑着说道。</p>
大首长点点头。</p>
他虽然没有明说要推广周晓东他们开发出来的开发板产品，不过显然是动了这个念头。</p>
“说说你在半导体设备上面的想法吧。”</p>
大首长笑吟吟地看着周晓东说道。</p>
“首长，这方面我有一个非常好的消息向您汇报。”</p>
“你说。”</p>
“通过上上下下的努力，掌握世界最顶尖的刻蚀设备技术的罗志平先生带着一支技术团队已经回国了，目前正在紧锣密鼓地和我们一起研制刻蚀设备和薄膜沉积设备，相信不出三年的时间我们能够在这两种工艺技术设备上取得非常大的突破。”</p>
周晓东开口说道：“另外我们自己目前研制的沉浸式光刻机样品已经开始在实验生产线进行试用和测试，目前进展比较顺利，按照我们制定的计划目标，到后年的时间我们这种我们独有的光刻机设备可以开始在晶圆生产线开始使用。”</p>
“你们连光刻机设备都研制出来了？”</p>
大首长惊喜地问道。</p>
“严格地说，是我们在光刻机设备的工件台这种关键部件系统上取得了突破，通过我们的试用测试，我们研制的工件台部件系统运动精度平均偏差控制在了四点五纳米，运动标准偏差做到了七纳米，按照这个技术指标来算的话，我们工件台系统可以满足六十五纳米制程工艺的光刻机设备需求。”</p
周晓东此时向大首长汇报道。</p>
“六十五纳米？”</p>
大首长此时瞪大了眼睛。</p>
“是的，这是我们在实验生产线里面通过使用测试得到的数据，不过我们还在进行工件台装置的耐久可靠性方面的测试，这个测试过程差不多需要一年多，为的就是暴露出工件台各个子系统在长时间使用中潜在的故障，制定这方面的可靠性测试大纲，然后我们再进行从材料到子系统部件设计到工艺技术方面的改进优化，保证我们推出来的工件台装置可靠耐用。”</p>
周晓东开口说道：“光刻机设备需要的镜头组系
