第516章 马不停蹄 (第1/3页)
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别人费尽心思帮忙省钱，苏业豪总不能不领情。
虽然自己组建生产线需要耽误一段时间，可既然已经比良想集团慢了许多年，早一点或者迟一点，也就无所谓了。
这支团队最近在岛上，主要负责谈零部件的采购事宜，过来十多天，基本谈得差不多。
接下来还要去一趟曰本，那边的半导体产业也挺发达，尼康和佳能这两家公司依然是光刻机行业的主流，倪老先生希望过去参观一下。
早些年时候。
国内光刻机并不算太差，1980年就有大学研制出第四代分部式投影光刻机，光刻精度达到三微米，接近国际主流水平。
而那时，光刻机巨头asml还没诞生。
后来研发更先进的光刻机的门槛慢慢增加，对资金方面的需求也越来越多。
因为种种原因，现如今国内的半导体行业已经彻底落后，尤其是尖端半导体，排在前列的公司名单里，几乎看不到内地企业的身影。
倪老先生从那个年代过来，看看良想每年采购花掉多少钱，再看看国产零部件占比究竟有多少，就知道不能再继续坐视不理。
到了这年纪，对物质方面没什么追求，只想尽快迎头追赶，避免进一步落后。
吃饭期间。
见倪老想去参观尼康和佳能的光刻机生产线，苏业豪这时候点点头，告诉说：
“行吧，如果以客户身份登门，应该没什么问题。我从资料上看见过，现在光刻机卡在193纳米的技术门槛上，如果能押对下一代技术，是不是有希望弯道超车？”
席间喝了点原住民自酿的红枣米酒，这玩意儿喝起来很舒服，可一杯接一杯没个准数，一不小心就多了，也挺上头。
倪老面色微红，听完笑着开口：
“理论上是这样，不过现在谁都不清楚出路究竟在哪。”
“我看过一些相关的论文，目前市场上主流的研发思路，都是在157nm的干式光刻技术路径上，佳能、尼康都在往这方面尝试。”
“另外，还有一项新的理论挺有意思，一位华裔越南科学家叫做林宝坚，他提出用水作为曝光介质，光源波长还是用原来的193nm，但通过水的折射，让进入光阻的波长缩小到134nm，起名叫做浸没式，我在杂志上看见过。”
“点子蛮有意思，只是一旦往这方面尝试，意味着要把以前的技术路线推翻，代价实在太大”
